Soluciones de salas limpias para la fabricación de semiconductores y electrónica
May 9, 2025
I. Soluciones para la fabricación de semiconductores
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Fotolitografía
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Salas limpias de la clase 3-5 de la ISO:
Las UFF con filtros ULPA (99,9995% @ 0,12 μm) mantienen ≤ 1.000 partículas/m3 para evitar la contaminación de las máscaras. -
Capas de flujo laminares amortiguadas por vibración:
Obtener una precisión de alineación de superposición < 0,5 μm a través de plataformas de aislamiento sísmico.
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Grabado y deposición
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Cuartos limpios modulares herméticos:
Paredes químicamente resistentes + filtros AMC (contaminación molecular en el aire) para controlar los niveles de HF/O3 < 1 ppb. -
Cajas de pase con purga de nitrógeno:
Transferir obleas entre las cámaras de plasma y ALD sin oxidación.
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Embalaje y pruebas avanzadas
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Salas secas con seguridad ESD (clase ISO 4):
Mantener una HRC ≤ 10% con sistemas de ruedas desecantes para el apilamiento de IC 3D. -
Salas limpias con blindaje RF:
Módulos de jaula de Faraday + FFU para pruebas de sonda de chip 5G / Wi-Fi 6E.
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II. Fabricación de paneles de pantalla
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Evaporación del OLED
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Cuartos limpios con bloqueo de carga al vacío:
Cámaras modulares con robots de transferencia de levitación magnética (entorno de clase 100 para deposición de capas orgánicas). -
Cajas de guantes sin oxígeno:
< 0,1 ppm de O2 para la pulverización de catodos para evitar la extinción de la luminiscencia.
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Transferencia de masa de los microLED
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Zonas de recogida y colocación de la clase 2 ISO:
Flujo laminar filtrado por ULPA + control de vibración de precisión de 10 nm para el enlace a presión. -
Las medidas de control se aplican a las medidas de control de las emisiones de gases de escape.:
Las bandejas conductoras eliminan la acumulación de carga durante el manejo del chip LED de 50 μm.
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III. Producción de electrónica de precisión
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Fabricación de PCB
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Salas limpias de control de polvo (clase ISO 6):
Unidad de control de velocidad (FFU) que elimina los desechos de perforación (≥ 0,3 μm) para evitar cortocircuitos en las placas HDI. -
Zonas de laminación estables en la humedad:
Mantener una HRC del 45±5% para la alineación de PCB de múltiples capas (tolerancia de ± 25 μm).
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Fabricación de sensores
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Salones limpios libres de nanopartículas:
Filtración ULPA (clase ISO 3) para grabado en giroscopio MEMS (espacios entre estructuras < 2μm). -
Cámaras de calibración de temperatura y humedad:
Salas limpias modulares con estabilidad de ± 0,1 °C para pruebas de sensores de IoT.
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IV. Ventajas fundamentales
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Optimización del rendimiento: Reducir la densidad de defecto a < 0,01/cm2 en la producción de nodos de 5 nm.
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Eficiencia energética: 40% menos costes operativos gracias a la gestión inteligente del flujo de aire de las FFU.
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El cumplimiento: Cumple con las normas SEMI F21, ISO 14644-1 Clase 3 y JEDEC EIA-625.
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Mantenimiento predictivo impulsado por IA: Monitoreo de partículas en tiempo real con detección de anomalías de aprendizaje automático.